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Die physikalische Gasphasenabscheidung . PHYSICAL VAPOR DEPOSITION

Die Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) sind Verfahren der Atomabscheidung, bei denen das Material in festem oder flüssigem Zustand in Form von Atomen oder Molekülen dampfförmig durch eine Vakuumumgebung oder Plasma verdampft und transportiert wird.

Dies erfolgt bis zum gewünschten Substrat, wo eine Kondenstaion stattfindet. Die Formen des zu beschichtenden Gegenstands können von flach bis zu Geometrien variieren. Letzere sind sehr komplex und typisch für dekorative Gegenstände oder Werkzeuge.

 

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